Глядя на другие компании, такие как Intel, Micron и Samsung, компания Toshiba объявила о создании новой опытной промышленной линии для продвинутых микросхем
флеш-памяти, которая будет использовать более тонкий технологический процесс. В настоящее время компания производит 32нм и 43нм чипы памяти и планирует начать производство "суб-25нм" чипов, которые предоставили бы больше возможностей для хранения при тех же форм-факторах, которые используются сегодня.
По имеющимся данным, второй по величине производитель NAND флеш-памяти уже заказал оборудование для производства чипов у ASML. В 2010 году Toshiba планирует вложить в этот проект колоссальную сумму $160млн. Если всё пойдёт по плану, Toshiba в ближайшее время начнет производство чипов NAND по какому-то более простому техпроцессу чуть больше 20нм, а в 2012 году начнёт массовый выпуск чипов по сложным 2x техпроцессам.
Это заявление было сделано примерно через два месяца после того, как совместное предприятие Intel и Micron, IM Flash Technologies, представило свою технологию создания 25нм NAND флеш-памяти. Помимо возможности упаковать бóльшее количество данных в меньший объём, новые технологии, а точнее, возросшая конкуренция в этом сегменте рынка, также должны помочь снизить цены существующих и будущих чипов памяти.