ASML получила 10 заказов на свои фотолитографические системы нового поколения EUV (использующие источник света с длиной волны в жестком ультрафиолетовом диапазоне) NXE:3300. Согласно заявлению представителей ASML, поставки должны начаться в 2012 году.
Заказы поступили от клиентов из Японии, Кореи, Тайваня и США. Степперы серии NXE:3300 обладают передовыми характеристиками позиционирования и экспонирования, а также высокой пропускной способности и предназначены для выпуска микросхем по 22-нм проектным нормам.
Представители голландской компании сообщили, что на их EUV-систему предыдущего поколения NXE:3100 для норм 27 нм поступило в общей сложности 6 заказов, и половина из них уже выполнены. Оставшиеся 3 системы заказчики получат к концу 2011 года.
Производительность NXE:3300 составляет 100 пластин в час, а у ее предшественницы - 60 пластин в час, согласно ASML.
Сообщается, что Rexchip Electronics является единственным тайваньским производителем чипов DRAM, решившимся заказать EUV-оборудование. Остальные производители пока не готовы приобрести новую установку, стоимость которой составляет порядка 100 млн. долларов США.
TSMC, один из ключевых клиентов ASML, в начале 2010 года заказала NXE:3100.
Подождите...