Intel хочет обойти Закон Мура

   По мнению главного исполнительного директора Intel Брайана Крзанича (Brian Krzanich), ответом на Закон Мура может стать технология EUV литографии (Extreme Ultraviolet – свет с длиной волны в жестком ультрафиолетовом диапазоне), которая, однако, весьма слабо отработана на данный момент.

   Intel надеется, что метод EUV позволит создать ещё более компактные, быстрые и эффективные процессоры. На сегодняшний день можно сказать следующее: хотя данная технологий реально существует, её запуск на коммерческие рельсы, оказывается, нельзя назвать беспроблемным. Большие надежды технология EUV начала подавать в 2009 году, когда датская компания ASML открыла новый источник светового излучения, способный обеспечить надёжное функционирование в режиме испускания волн необходимой длины. Прошлым летом Intel решила инвестировать $4,1 млн в ASML, однако действительно стоящих известий на этом фронте было совсем немного.

   Intel заявила о работе над созданием транзисторов в рамках 10-нм технорм к 2015 году и транзисторов по 7-нм техпроцессу – к 2017 году, причём Intel не подтверждает, что речь идёт о технологии EUV. Если EUV не «выстрелит», для Intel это будет означать нечто большее, чем крупные финансовые потери, а Закон Мура получит дополнительное подтверждение, вызвав многолетний застой в развитии технологии производства чипов.